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Ficha técnica

ZEISS·Microscopía electrónica (SEM/FIB)

SIGMA 560

Sigma 560 — microscopio electrónico (SEM/FIB) de Zeiss (Resolución a bajo kV a 500 V: 1.5 nm).

1.5 nmResolución
two 180° diametrically-opposedEDS ports
3 kVAceleración (g)
Cotizar o consultar
Microscopio electrónico de barrido SEM/FIB SIGMA 560 de Zeiss para imagenología y análisis de superficie, con resolución de 1.5 nm a 500 V.

Descripción

Conoce el equipo

La familia ZEISS Sigma combina la tecnología del microscopio electrónico de barrido de emisión de campo (FE-SEM) con una excelente experiencia de usuario, estructurando las rutinas de captura de imágenes y análisis para aumentar la productividad. El Sigma 560 utiliza la mejor geometría EDS de su clase para ofrecer análisis de alto rendimiento y permitir experimentos in situ automatizados, siendo el modelo de la familia orientado a productividad analítica avanzada.

No es necesario hacer concesiones en la captura de imágenes de alta resolución: el equipo recurre a bajas tensiones y se beneficia de una mejor resolución y contraste a 1 kV o menos. Es adecuado para estudiar nuevos materiales, partículas para inspección de calidad, muestras biológicas o geológicas, incluyendo aplicaciones en metales, rocas y minerales, así como ultraestructura biológica mediante imágenes de caras de bloque en serie.

Aplicaciones ideales

Resuelve tu aplicación

Imagenología de alta resolución
Análisis de superficie
Caracterización de materiales
SIGMA 560

Principio de funcionamiento

Así trabaja por ti

Como microscopio electrónico de barrido de emisión de campo de alto rendimiento analítico, el ZEISS Sigma 560 opera en cinco etapas:

01

Emisión de campo a bajo voltaje

El equipo recurre a bajas tensiones para obtener una mejor resolución y contraste a 1 kV o menos, sin comprometer la calidad de imagen.

02

Geometría EDS de doble puerto

Dos puertos EDS diametralmente opuestos a 180° garantizan el rendimiento y un mapeo sin sombras, incluso con baja corriente de haz y baja tensión de aceleración.

03

Análisis más allá de EDS

Puertos adicionales para EBSD y WDS en la cámara permiten ampliar las capacidades analíticas del sistema.

04

Imágenes en muestras difíciles

El nuevo modo NanoVP lite permite analizar incluso muestras no conductoras con más señal y contraste, mientras que el nuevo detector aBSD4 facilita la obtención de imágenes en muestras altamente topográficas.

05

Experimentos in situ automatizados

Un laboratorio in situ totalmente integrado permite obtener resultados independientes del operador en pruebas de calentamiento y tracción, dentro de un flujo de trabajo desatendido y automatizado; el software ZEISS SmartSEM Touch automatiza la navegación, la configuración de parámetros y la adquisición de imágenes.

Características destacadas

Lo que lo hace diferente

Geometría EDS de doble puerto (180°)

Rendimiento y mapeo sin sombras

Puertos adicionales para EBSD y WDS

Análisis más allá de EDS

Modo NanoVP lite

Análisis de muestras no conductoras con más señal y contraste

Nuevo detector aBSD4

Imágenes fáciles en muestras altamente topográficas

Laboratorio in situ totalmente integrado

Pruebas de calentamiento y tracción automatizadas

Software SmartSEM Touch

Automatización de navegación y adquisición de imágenes

Alto rendimiento analítico

Orientado a experimentos automatizados

Bajas tensiones sin comprometer resolución

Mejor resolución y contraste a 1 kV o menos

Resultados independientes del operador

Flujo de trabajo desatendido

Especificaciones técnicas

Especificaciones
del SIGMA 560

SIGMA 560
low-kV resolution at 500 V
1.5 nm
EDS ports
two 180° diametrically-opposed
acceleration voltage range for NanoVP lite mode
3 kV
Tipo de instrumento
Microscopio electrónico de barrido de emisión de campo (FE-SEM)
Familia
ZEISS Sigma
Posicionamiento del modelo
Alto rendimiento analítico, experimentos in situ automatizados
Puertos EDS
2, diametralmente opuestos a 180°
Puertos adicionales
EBSD, WDS
Modo de imagen para no conductores
NanoVP lite
Detector adicional
aBSD4 (muestras altamente topográficas)
Laboratorio in situ
Totalmente integrado, pruebas de calentamiento y tracción
Software
SmartSEM Touch (automatización)
Diodo BSD (configuración de ejemplo)
Basado en silicio, detección directa de electrones retrodispersados, un segmento
Distancia de trabajo óptima (ejemplo)
4–6 mm
Rango de energía (ejemplo)
≤ 7 keV
Corriente de haz primario óptima (ejemplo)
50 pA – 1 nA
Aplicaciones principales
Nuevos materiales, control de calidad de partículas, muestras biológicas o geológicas, metales, rocas y minerales, ultraestructura biológica
Fabricante
Carl Zeiss Microscopy GmbH

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